为帮助客户应对65纳米及45纳米技术节点上新产生的缺陷和成品率挑战，KLA-Tencor近日发布了突破性明场晶片检测平台 2800系列，它能有效地检测出所有工艺层上的广泛的关键性缺陷。 2800系列提供了业界的超宽带波长检测功能，其生产能力可达上一代深紫外明场成像工具的两倍，并有望确立明场晶片检测领域的新标准，使芯片生产商能全面满足快速开发和生产新一代IC器件的检测要求。